JIS H0611-1971 硅晶片厚度、厚度不均匀度及其翘曲度的测定方法
作者:标准资料网 时间:2024-05-10 06:02:09 浏览:8591
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【英文标准名称】:
【原文标准名称】:硅晶片厚度、厚度不均匀度及其翘曲度的测定方法
【标准号】:JISH0611-1971
【标准状态】:作废
【国别】:日本
【发布日期】:1971-10-01
【实施或试行日期】:1971-10-01
【发布单位】:日本工业标准调查会(JISC)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:曲率;薄膜;膜(物态);衬底(绝缘);准金属;尺寸;测量;锥形;厚度;硅
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:H81
【国际标准分类号】:
【页数】:
【正文语种】:
【原文标准名称】:硅晶片厚度、厚度不均匀度及其翘曲度的测定方法
【标准号】:JISH0611-1971
【标准状态】:作废
【国别】:日本
【发布日期】:1971-10-01
【实施或试行日期】:1971-10-01
【发布单位】:日本工业标准调查会(JISC)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:曲率;薄膜;膜(物态);衬底(绝缘);准金属;尺寸;测量;锥形;厚度;硅
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:H81
【国际标准分类号】:
【页数】:
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